东京:在日本政府的密切支持下，美光科技未来几年将在日本投资高达5000亿日元(36亿美元)，以实现下一波端到端技术创新，比如快速崛起的生成式人工智能(AI)应用。

　　美光科技(Micron Technology)将在日本引进极紫外线(EUV)技术，利用这种复杂的图形技术制造下一代DRAM 1-gamma节点。

　　美光公司在一份声明中表示，该公司将成为首家将EUV技术引入日本生产的半导体公司，其广岛工厂在该公司1-gamma节点的开发中发挥着关键作用。

　　“我们很自豪能在日本率先使用EUV，并在我们的广岛工厂开发和制造1-gamma。我们的计划反映了我们对日本的持续承诺，与日本政府的牢固关系以及我们广岛美光团队的杰出才能，”美光总裁兼首席执行官Sanjay Mehrotra说。

　　美光能够提高内存密度、提高功率效率和降低每比特成本，帮助开启数字化、可持续性和绿色转型以及自动化的新机遇。

　　美国驻日本大使拉姆?伊曼纽尔(Rahm Emanuel)表示:“美光与日本宣布将在广岛生产1-伽马存储器，这是确保半导体供应链安全的重要一步。”“这种伙伴关系表明，盟国在共同努力时，可以在尖端技术方面创造经济机会和安全。”

　　EUV光刻是世界上最先进的半导体制造工艺。

　　美光将EUV集成到其下一个节点中，将在允许该节点提供更快，更节能和更高性能的内存产品方面发挥关键作用，并将使公司进一步不懈追求行业领先的内存创新。

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